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   ABB將推出一種用于在半導(dǎo)體制造的蝕刻、洗凈、剝離等工序中管理和控制藥液的分析系統(tǒng)“Analyze Wet Process Analyzer”（以下簡(jiǎn)稱WPA）。通過對(duì)藥液進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，不僅能夠提高最終產(chǎn)品的質(zhì)量與成品率，同時(shí)還能減少藥液的用量和廢棄量。價(jià)格自600萬日元起。

   WPA是一種傅立葉變換式紅外線分光儀，利用光纖連接用于半導(dǎo)體制造工藝的檢測(cè)單元“ClippIR+”。在不發(fā)生污染的非接觸狀態(tài)下，最多可對(duì)8個(gè)測(cè)量點(diǎn)進(jìn)行管理。測(cè)量對(duì)象達(dá)30多種，包括氫氧化銨（NH4OH）、過氧水（H2O2），鹽酸（HCL）、氫氧化鉀（KOH）、氟化銨（NH4F）、氟化氫（HF）和醋酸（Acetic Acid）等。不論溶液中是什么成分，每個(gè)測(cè)量點(diǎn)只需51秒即可完成測(cè)量。

   由于能夠?qū)⒎治鱿到y(tǒng)本身安裝在離測(cè)量點(diǎn)最遠(yuǎn)為100m的位置，因此能夠在沒有藥液的空氣環(huán)境中進(jìn)行管理，還可與控制系統(tǒng)結(jié)合使用。由于ClippIR+尺寸很小，因此不需改造生產(chǎn)線即可配置。而且采用了含氟樹脂加工，耐腐蝕。此外，還安裝了用于濕式工藝的管理與控制專用軟件。該軟件除顯示各測(cè)量點(diǎn)藥液成分、濃度和趨勢(shì)，保存數(shù)據(jù)等功能外，還具有一旦相關(guān)數(shù)據(jù)超過容許范圍就會(huì)報(bào)警的功能。

   該公司將在2005年12月7～9日于日本千葉幕張Messe會(huì)展中心舉辦的“SEMICON Japan 2005”上展出該產(chǎn)品。